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限定条件	发表日期：2016    作者：尹韶云    第一作者    作者：杨正    专题：微纳制造与系统集成研究中心    第一作者的第一单位    第一作者单位    通讯作者单位

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	UVLED光源结构及平行光曝光机 专利 专利类型: 实用新型, 专利号: 201620303103X, 申请日期: 2016-04-12, 发明人:  江海波;  孙秀辉;  蔡文涛;  杨正;  尹韶云;  杜春雷 Adobe PDF(440Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：95/0  |  提交时间：2018/03/19
	一种用于紫外LED曝光机的电子快门 专利 专利类型: 发明专利, 专利号: 2014100321110, 申请日期: 2014-01-23, 发明人:  尹韶云;  李任远;  苟健;  孙秀辉;  杨正;  吴鹏;  杜春雷 Adobe PDF(621Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：66/0  |  提交时间：2018/03/16
	Calculation of surface plasmon holographic interferometry based on point light source 期刊论文 OPTIK, 2016, 卷号: 127, 期号: 10, 页码: 4498-4501 作者:  Liu, Danjun;  Yang, Zheng;  Zheng, Qianying;  Xia, Liangping;  Yang, Ruofu;  Du, Chunlei;  Yin, Shaoyun Adobe PDF(1940Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：111/0  |  提交时间：2018/03/15 Surface plasmon  Interference calculation  Holography
	Silicon-mold-based fabrication method for manufacturing polyimide membrane with nano-protuberance array structure 会议论文 6th IEEE International Conference on Manipulation, Manufacturing and Measurement on the Nanoscale, IEEE 3M-NANO 2016, Chongqing, China, July 18, 2016 - July 22, 2016 作者:  Yang, Zheng;  Wu, Peng;  Rao, Xianhua;  Yin, Shaoyun;  Du, Chunlei Adobe PDF(472Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：68/0  |  提交时间：2018/03/16