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Continuous microstructure etching process polyimide based moving mask exposure 期刊论文
Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2015, 卷号: 44, 期号: 9
作者:  Xie, Yu-Ping;  Wu, Peng;  Yang, Zheng;  Yin, Shao-Yun;  Du, Chun-Lei;  Dong, Lian-He
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基于移动掩模曝光的聚酰亚胺连续微结构刻蚀工艺研究 期刊论文
光子学报, 2015, 卷号: 44, 期号: 9, 页码: 0922004
作者:  谢玉萍;  吴鹏;  杨正;  尹韶云;  杜春雷;  董连和
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