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一种基于电击穿在氮化硅薄膜上精确制备纳米孔的方法 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: 2015107499886, 申请日期: 2015-11-06,
发明人:  王德强;  应翠凤;  黄绮梦;  张月川;  冯艳晓
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Solid-state nanopores fabricated by pulse-controlled dielectric breakdown 会议论文
6th IEEE International Conference on Manipulation, Manufacturing and Measurement on the Nanoscale, IEEE 3M-NANO 2016, Chongqing, China, July 18, 2016 - July 22, 2016
作者:  Zhao, Yue;  Zhou, Daming;  Wei, Helei;  Wang, Deqiang;  Cui, Hong-Liang
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