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高均匀度的紫外LED曝光头 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 2014206514324, 申请日期: 2014-11-03,
发明人:  尹韶云;  孙秀辉;  董燕;  周维超;  吴鹏;  蔡文涛;  谭艾英;  杜春雷
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Continuous microstructure etching process polyimide based moving mask exposure 期刊论文
Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2015, 卷号: 44, 期号: 9
作者:  Xie, Yu-Ping;  Wu, Peng;  Yang, Zheng;  Yin, Shao-Yun;  Du, Chun-Lei;  Dong, Lian-He
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