×
验证码:
换一张
忘记密码？
记住我
×
登录
中文版
|
English
中国科学院重庆绿色智能技术研究院机构知识库
KMS Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, CAS
登录
注册
ALL
ORCID
题名
作者
发表日期
学科领域
关键词
文献类型
出处
存缴日期
收录类别
出版者
资助项目
学科门类
学习讨论厅
首页
研究单元&专题
作者
文献类型
学科分类
知识图谱
新闻&公告
在结果中检索
研究单元&专题
微纳制造与系统集成研... [1]
集成光电技术研究中心 [1]
作者
杜春雷 [1]
尹韶云 [1]
杨正 [1]
吴鹏 [1]
文献类型
期刊论文 [1]
发表日期
2015 [1]
语种
中文 [1]
出处
Guangzi Xu... [1]
资助项目
收录类别
EI [1]
资助机构
×
知识图谱
CSpace
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共1条，第1-1条
帮助
限定条件
语种：中文
出处：Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica
已选(
0
)
清除
条数/页：
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式：
请选择
期刊影响因子升序
期刊影响因子降序
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
WOS被引频次升序
WOS被引频次降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Continuous microstructure etching process polyimide based moving mask exposure
期刊论文
Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2015, 卷号: 44, 期号: 9
作者:
Xie, Yu-Ping
;
Wu, Peng
;
Yang, Zheng
;
Yin, Shao-Yun
;
Du, Chun-Lei
;
Dong, Lian-He
Adobe PDF(1425Kb)
|
收藏
|
浏览/下载：91/0
|
提交时间：2018/03/16
