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一种基于偏振敏感金属纳米天线的两相位动态全息装置 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: 2016112625046, 申请日期: 2016-12-30,
发明人:  尹韶云;  郑倩颖;  李晶;  杨正;  刘丹骏;  杜春雷
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聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光 期刊论文
光学精密工程, 2019, 卷号: 000, 期号: 002, 页码: 302
作者:  杨正;  靳志伟;  陈建军;  饶先花;  尹韶云;  吴鹏
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