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限定条件	作者：尹韶云    第一作者    专题：微纳制造与系统集成研究中心    第一作者的第一单位    第一作者单位    通讯作者单位

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	Continuous microstructure etching process polyimide based moving mask exposure 期刊论文 Guangzi Xuebao/Acta Photonica Sinica, 2015, 卷号: 44, 期号: 9 作者:  Xie, Yu-Ping;  Wu, Peng;  Yang, Zheng;  Yin, Shao-Yun;  Du, Chun-Lei;  Dong, Lian-He Adobe PDF(1425Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：94/0  |  提交时间：2018/03/16
	Effective design of diffractive optical elements for beam splitting with SA algorithm 会议论文 Holography, Diffractive Optics, and Applications V, Beijing, China, November 5, 2012 - November 7, 2012 作者:  Pang, Hui;  Yin, Shaoyun;  Deng, Qiling;  Fu, Yongqi;  Du, Chunlei Adobe PDF(460Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：48/0  |  提交时间：2018/03/16