KMS Chongqing Institute of Green and Intelligent Technology, CAS
| 数字掩模投影光刻的极限分辨率研究 | |
| 刘玉环1; 赵圆圆2; 董贤子1; 郑美玲1; 段宣明1; 赵震声1 | |
| 2019 | |
| 摘要 | 研究了一种基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模投影光刻(DMPL)技术,以400 nm飞秒激光作为光源,结合高缩放比投影系统,来缩小光刻胶与光子束的反应区域,通过调控不同DMD像素投影光场强度分布,将投影光刻的线宽分辨率推进至亚微米尺度,实现了具有跨尺度加工能力(单次曝光面积在百微米以上,曝光精度在百纳米)的DMPL技术,同时详细对比分析了DMPL中存在的几何和物理光学模型,阐明了像素个数与加工结构尺寸的关系,并进一步基于物理光学模型分析了DMPL中极限分辨率的关键科学问题。 |
| 发表期刊 | 量子电子学报
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| ISSN | 1007-5461 |
| 卷号 | 036期号:003页码:354 |
| 语种 | 英语 |
