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	大面积低损耗薄膜衬底太赫兹偏振片
	毛洪艳1; 许红梅1; 夏良平2; 王思江1; 饶先花2; 李薇1; 沈俊2; 魏东山2; 赵国忠3; 崔洪亮2
	2015
摘要	以硬质硅片作为承载体,在其表面合成性质可控的聚合物薄膜,利用光刻工艺制作微结构,将薄膜与硅片剥离,获得在柔性衬底上大面积均匀的太赫兹器件.以聚酰亚胺薄膜为衬底的太赫兹偏振片的测试结果表明:在0.1 THz处,器件的偏振消光比可达到50 dB,在0.1~2 THz范围内偏振方向的平均透过率高达89.78%,偏振度大于99.84%,在42.3 mm直径的区域内,其偏振均匀性好,达到实用化要求.
发表期刊	光子学报
ISSN	1004-4213
卷号	44期号:9页码:0923004
收录类别	EI
语种	英语