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本发明涉及一种超薄碳化钼材料的制备方法及其产品，属于碳化钼材料制备技术领域，该方法包括以下步骤：(1)将催化剂置于钼源上，放置于反应炉管内，然后通入保护气氛；(2)升温至900‑1100℃，恒温0‑30min，通入碳源后反应10‑60min；(3)降温至25℃，制得超薄碳化钼材料。该方法制备工艺简单，制得的超薄碳化钼材料(100nm厚度以下)是一种具有催化特性并且能够稳定存在的二维材料，其在光电催化、吸附、传感、纳米能源、复合材料、热电材料、超导材料等多个技术领域具有广泛应用。