中国科学院重庆绿色智能技术研究院机构知识库

本发明公开了一种多孔金刚石薄膜的制备方法，将硅衬底放置于微波等离子体化学气相沉积装置中，所述硅衬底表面镀有一层金属Pt薄膜作为催化剂；将真空度控制在10‑30毫巴，通入工作气体载入碳源至微波等离子发生区域，加热至750‑850℃；沉积得到块体的金刚石薄膜；将薄膜在500‑600℃空气氛围中煅烧，得到多孔金刚石薄膜。该方法不需要模板，也无需复杂的预处理工艺和高温过程，能够避免金属污染，使处理工序更加简化。